两块栅距相同的光栅以小夹角 θ 叠合形成莫尔条纹,若减小夹角 θ,则莫尔条纹间距 B_H 如何变化?
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莫尔条纹是两组周期相近的线纹以小夹角叠合时形成的、间距远大于栅距的明暗条纹,可把微小位移放大成便于计数的条纹移动,并借方向与平均效应实现高精度位移测量。
莫尔条纹是两组周期相近的线纹(如两块光栅)叠合时,在近似垂直于栅线的方向上出现的明暗相间、间距远大于单组线纹周期的粗大条纹。形成条件:两组线纹的栅距(周期)相同或相近,且栅线之间保持一个很小的夹角 θ。
在长条形镀膜玻璃上刻制明暗相间、等间距的细小条纹,即为光栅。设 a 为栅线宽度(不透光),b 为栅线间距(透光),则栅距(光栅常数)W = a + b,通常取 a = b。常用光栅的刻线密度为每毫米 10、25、50、100、125、250 条线。
两块同型号光栅叠合、栅线夹角为 θ 时,莫尔条纹间距 B_H 与栅距 W、夹角 θ 的关系为
式中 W 为光栅栅距(单位 mm),θ 为两光栅刻线夹角(单位 rad),B_H 为莫尔条纹间距(单位 mm)。θ 越小,B_H 越大,相当于把栅距放大了 1/θ 倍,因此可提高测量灵敏度,使条纹便于肉眼或光电元件辨认。
光栅每移动一个栅距 W,莫尔条纹移动一个条纹间距 B_H。固定一块光栅、另一块光栅沿某一方向移动时,莫尔条纹沿近似垂直方向移动;移动方向相反时,条纹移动方向也相反。因此条纹移动方向可用于判别光栅的运动方向。
光电元件接收的是其视场内所有光栅刻线共同作用的总光能量,个别刻线的加工误差、断线等影响被平均削弱。若各刻线的误差为相互独立的随机误差,单条刻线误差的标准差为 δ₀,则 n 条刻线误差平均值的标准差为
式中 δ₀ 为单条刻线误差的标准差,n 为光电元件能接收到对应信号的光栅刻线条数,Δ 为 n 条刻线误差平均值的标准差。n 越大,平均效果越强,对光栅刻线质量的要求可相应降低。若各刻线存在相同的固定偏差,则等权平均后该固定偏差仍为 δ₀,不随 n 减小。
主光栅与运动部件相连、决定测量范围,指示光栅固定不动用于读数。两者间距 d 不能仅由 W²/λ 普遍确定;只有在采用衍射扫描(自成像)结构、以有效光波长 λ 照明且满足相应自成像条件时,才可按 d = W²/λ 选取间隙。若采用成像扫描结构,则间隙由成像扫描的物像条件确定,不适用该式。主光栅每移动一个栅距 W,光强变化一个周期,光电元件输出近似正弦电压
式中 u 为输出电压,U_o、U_m 分别为直流分量与交流分量幅值,x 为光栅位移,W 为栅距。由脉冲数 p 与刻线密度 n(线/mm)可得位移
在相隔 B_H/4 的位置放置两个光电元件,可得到相位差 π/2 的两路正弦信号,整形为方波后经微分与门电路判别,即可确定位移方向。细分技术用于在一个栅距周期内进一步细分,以提高分辨率。
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用 50 线/mm 的光栅测量位移,计数器记录到莫尔条纹移动 200 条,被测位移为多少?
多条刻线误差独立、近似零均值且单线误差标准差为δ₀时,怎样描述平均效应?