光栅传感器中,莫尔条纹的位置主要由什么决定?
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光栅莫尔条纹由窗口内多条刻线共同形成,使单条刻线的局部误差被平均,整体误差约按参与线数的平方根减小。
光栅传感器中,指示光栅与标尺光栅叠合,在光栅窗口内有多条刻线同时参与透光与挡光。莫尔条纹的明暗分布是窗口内所有刻线透光强度叠加的结果,而不是由某一条刻线单独决定。因此,某一条刻线的局部位置误差或宽度误差对整条莫尔条纹位置的影响,会被其他大量正常刻线的贡献所稀释。
设某一条刻线的测量尺寸误差为 ,窗口内参与条纹形成的刻线数为 。若各刻线的误差彼此独立、随机分布,且 表示单条刻线误差的标准差,则 条刻线误差取平均后,其平均值的标准差为
其中 为单条刻线误差的标准差(单位与位移量相同,如 ), 为参与共同作用的刻线数(无量纲), 为 条刻线误差平均值的标准差,即该随机误差折算到莫尔条纹整体位置上的等效不确定度(单位同 )。
若各刻线存在相同的固定偏差(等权平均),则平均后的偏差为 ,而不是 ; 仅适用于独立随机误差平均值的标准差。
该关系成立的前提是:多条刻线确实同时参与同一莫尔条纹的形成,即光栅窗口内包含足够多的刻线;各刻线误差近似随机、相互独立,不存在所有刻线同向的系统性偏差。若误差是系统性的(如整块光栅均匀伸缩),则不能被平均效应削弱。参与线数 越大,平均效果越显著。
平均效应说明:对刻线局部缺陷、个别刻线尺寸偏差的要求可以适当放宽,只要窗口内参与作用的刻线数足够多,莫尔条纹的位置精度仍可高于单条刻线的制造精度。这使光栅传感器在保持较高测量分辨力的同时,降低了对单条刻线加工精度的苛刻要求。
仅一条确定偏差δ、其余零,且等权算术平均时偏差δ/n;若n条独立随机误差各标准差σ,平均尺度σ/√n。误差性质不同,不混用。
真实光学输出不必等于位置简单算术平均,δ/n也只是明确假设的对照模型,不替代实际读头分析。
基础测试统一使用选择题,先确认概念、定义和关键判断是否扎实。
光栅传感器中,莫尔条纹的位置主要由什么决定?
各刻线随机位置误差独立、近似零均值且同标准差δ₀时,n条等权平均后的误差标准差如何变化?
下列哪种情况下,光栅刻线误差平均效应无法有效减小莫尔条纹位置误差?
暂无引用。